用到湿电子化学品。
种类繁多，譬如蚀刻液、显影液、极性溶液、氢氟酸、硫酸、双氧水、异丙醇等。
这家现在华电旗下的化工用品厂也是一样。
能生产出不少湿电子化学品，卖得还挺好，但都是最差的那种，堪称劣质。
在高端芯片上，基本不能用……
“想尽一切办法提升技术水平，把制造生产高端光掩膜版作为战略发展目标，总公司那边要钱给钱，要人招人，全力支持，我只有一个要求：
“在最短的时间内，把技术水平提上去！”
同辉公司陪同的几名高管，赶忙应是。
削尖脑袋去钻研呗，还能有什么办法，这位都亲自发话了……
李建昆暗叹口气，如他所想一样，收购整合这些公司后，的确能捯饬出一些芯片制造材料。
然而，技术不过关。
弄出来的都是很差的那种。
这些公司仍需要大力发展，无底洞式地砸钱……
他只能这样去安慰自己：
1.质量好不好的，起码有了不少材料可用。
2.对于许多材料来说，至少有个研发的底子了，不至于像无头苍蝇。
离开同辉胶卷公司时，华电集团的副总吴博龙，看出大老板心有郁结，思忖着说：
“董事长，我们最近在洽谈收购一家公司，如果成功拿下，能得到一种水准线以上的、芯片制造的关键材料。”
“哦？什么？”李建昆问。
“光刻胶。”
李建昆：“！！！”
他瞬间来了精神。
在芯片制造的核心材料中，光刻胶绝对是个研发老大难，或许没有之一。
比如特区华电研究院那边，对此一点头绪都没有。
而像诸如湿电子化学品这类材料，华电研究院其实也有研究。
光刻胶，听起来像一种胶水，事实上差也差不多。
它是一种有机化合物，本身呈液体状，涂在晶圆表面，被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，而后干燥成胶膜，能将光掩膜版上的图形转移到硅片上。
这玩意儿难就难在，成分极其复杂，制造工艺难以掌握。
光刻胶的主要成份有：高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂等。
问题是什么溶剂，什么添加剂，都是个谜。
搞明白这些还没有用，你得知道详细配比。
开发所涉及的技术难题众多，需要从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配